طیف سنجی نشر اتمی تخلیه تابش

مبانی

  در روش های مبتنی بر تخلیه تابشی از مکانیسم تخلیه تابش (Glow discharge) جهت اتمی کردن و تهییج ناصر موجود در نمونه استفاده می شود. تخلیه تابش با اعمال پتانسیلی در حد 1kv بین دو الکترودی که درون یک سل حاوی گاز آرگون در فشار کم  (10-1 تور) قرار دارند صورت می گیرد. ولتاژ اعمالی سبب می شود که گاز آرگون به الکترون و یون های مثبت آرگون شکسته شود. میدان الکتریکی یا میدان فرکانس رادیویی (radio frequency, RF)، یون های آرگون را به سمت کاتدی که از جنس نمونه است شتاب می دهد. این یون های پرانرژی سبب بمباران سطح نمونه می شود. این عمل سبب می شود تا اتم های خنثی از سطح نمونه کنده شود که به این فرایند کندوکاش (sputtering) گفته می شود. در واقع کندوکاش کاتدی (cathodic sputtering) برای حذف و زدودن لایه به لایه از سطح نمونه نیز به کار می رود. سرعت کندوکاش ممکن است تا 100µg بر دقیقه باشد… ادامه مطلب